流體質(zhì)點通過裝置時，其停留時間長短的分布情況。有些質(zhì)點迅速流出，有些質(zhì)點則可能在裝置內(nèi)滯留較長時間。流體在反應器內(nèi)滯留將會嚴重影響反應的最終結果。
研究反應器內(nèi)流體停留時間分布的實際意義有哪些？
1、了解已有反應器內(nèi)物料的流動狀況,確定表示流動特性的模型參數(shù),判斷反應器的型式、結構、操作方式是否合理,找出存在的問題，確定改進方向。
2、研究各種類型反應器內(nèi)流體的停留時間分布規(guī)律,建立流體流動模型,以便對偏離理想流動模型的反應器進行設計分析。
停留時間分布的測定一般采用示蹤技術，示蹤劑選用易檢測其濃度的物質(zhì)，根據(jù)其光學、電學、化學及放射等特性，采用比色、電導、放射檢測等測定濃度。
選擇示蹤劑要求:
1.與主流體物性相近，互溶，且與主流體不發(fā)生化學反應；
2.高低濃度均易檢測，以減少示蹤劑的用量；
3.示蹤劑的加入不影響主流體的流動形態(tài)；
4.示蹤劑應選擇無毒、不燃、無腐蝕且價格較低的物質(zhì)。
TCM3示蹤劑停留時間及濃度分布測量儀是一種多通道的用于在線測量液流中示蹤劑濃度分布的儀器。其測量方法是利用插入反應器內(nèi)的測量探針，通過探針前端的光電器件，將液體的透光率轉換為相應電信號。結合儀器處理軟件，得到反應器內(nèi)流體中示蹤劑的停留時間及濃度分布。
